マイクロンの勤務地:広島工場を中心とする国内拠点

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情報の確認日:2026年10月11日|出典:マイクロン(マイクロンメモリ ジャパン)の公式サイト(ページ末尾に一覧)

米国マイクロン・テクノロジーの日本の主要拠点は、広島県東広島市の広島工場です。公式の拠点一覧では「Hiroshima Plant / Technology Development」と、生産と技術開発の両方を担う拠点として記載されています。

2026年7月4日の公式発表によると、広島工場では先進メモリ向けの新しいクリーンルームの建設が始まり、製造装置の搬入開始は2028年後半を予定しています。広島工場は1β DRAMの生産や、1γ DRAMでのEUV露光技術の導入を進めてきた拠点とされています。

マイクロンの国内拠点と所在地

公式サイトに掲載された拠点を4件掲載しています。所在地と機能は出典ページの記載に基づき、機能が書かれていない拠点はその旨を記しています。

拠点所在地公式に示された機能
広島工場(Hiroshima Plant / Technology Development)広島県東広島市DRAMの生産・技術開発。1β DRAM生産、1γ DRAMでのEUV導入[1]
Saijo Office(西条オフィス)広島県(Hiroshima)オフィス[2]
Hashimoto Engineering Center(橋本エンジニアリングセンター)公式拠点一覧では「Hashimoto」とのみ表記エンジニアリングセンター[2]
Tokyo Office(東京オフィス)東京都オフィス[2]

都道府県でみると、マイクロンの国内拠点は東京都・広島県にあります(2都道府県)。

広島工場について公式発表から分かること

項目公式発表の内容(2026年7月4日)
新クリーンルーム段階的に建設。第一期の面積は約30万平方フィート
装置搬入2028年後半に開始予定
技術1β DRAMの生産、1γ DRAMでのEUV露光技術の導入
役割次世代AI向けの先進的なDRAMやHBMの開発の一翼を担う

マイクロンの日本の求人は公式キャリアサイトで公開されており、求人名に勤務地(例:【広島/東広島】)が入っているものがあります。職種別の勤務地の一覧は公開されていないため、求人ごとに確認してください。

所在地を見比べて気づく点

公式の拠点一覧では、広島に「Hiroshima Plant / Technology Development」と「Saijo Office」の2拠点が並んでいます。工場勤務かオフィス勤務かで、同じ広島でも通勤先が変わります。

「Hashimoto Engineering Center」は公式一覧で都市名のみの記載です。所在地の詳細は求人票で確認してください。

内定前に文書で確かめたい項目

  • 就業場所が広島工場か西条オフィスか
  • シフト勤務(交替勤務)の有無
  • 英語の使用頻度(米国本社・海外拠点との連携)
  • 新クリーンルーム関連の立ち上げ業務の有無

就業場所・業務の「変更の範囲」は、2024年4月から労働条件の明示事項に加わっています(厚生労働省「2024年4月から労働条件明示のルールが変わります」)。口頭の説明と書面が違う場合は、書面の記載を確認してください。

同じ都道府県に拠点がある企業

勤務地の候補が重なる企業です。同じ地域で転職先を比べるときの参考にしてください。

出典(確認日:2026年10月11日)

  1. マイクロン「広島工場のクリーンルームに着工」(2026年7月4日)
  2. Micron「Locations」
  3. マイクロン「Job descriptions」

拠点の新設・統合や募集状況は変わります。応募の際は、各社の採用ページと求人票の最新の記載を確認してください。

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